Ống kính silicon tráng phủ silicon đơn tinh thể tùy chỉnh phủ màng chống phản xạ AR

Ống kính silicon tráng phủ silicon đơn tinh thể tùy chỉnh phủ AR phim chống phản xạ Hình ảnh nổi bật

Mô tả ngắn gọn:

Thấu kính silicon đơn tinh thể phủ là một thành phần quang học chức năng dựa trên silicon đơn tinh thể (Si) có độ tinh khiết cao thông qua công nghệ xử lý và phủ quang học chính xác. Silicon đơn tinh thể có khả năng truyền ánh sáng tuyệt vời trong dải hồng ngoại (1,2-7μm) và kết hợp với các lớp phủ như màng chống phản xạ (AR), màng phản xạ cao (HR) hoặc màng lọc, có thể cải thiện đáng kể hiệu suất truyền hoặc phản xạ của các dải cụ thể. Các sản phẩm được sử dụng rộng rãi trong hình ảnh hồng ngoại, quang học laser và phát hiện bán dẫn.

Gửi email cho chúng tôi

Chi tiết sản phẩm

Thẻ sản phẩm

Đặc điểm của thấu kính silicon tráng phủ:

1. Hiệu suất quang học:
Phạm vi truyền dẫn: 1,2-7μm (gần hồng ngoại đến trung hồng ngoại), độ truyền dẫn >90% trong dải cửa sổ khí quyển 3-5μm (sau khi phủ).
Do chiết suất cao (n≈ 3,4@4μm), nên mạ một lớp màng chống phản xạ (như MgF₂/Y₂O₃) để giảm tổn thất phản xạ bề mặt.

2. Độ ổn định nhiệt:
Hệ số giãn nở nhiệt thấp (2,6×10⁻⁶/K), khả năng chịu nhiệt độ cao (nhiệt độ hoạt động lên tới 500℃), phù hợp cho các ứng dụng laser công suất cao.

3. Tính chất cơ học:
Độ cứng Mohs 7, chống trầy xước nhưng dễ gãy, cần bảo vệ vát cạnh.

4. Đặc điểm lớp phủ:
Customized anti-reflection film (AR@3-5μm), high reflection film (HR@10.6μm for CO₂ laser), bandpass filter film, etc.

Ứng dụng của thấu kính silicon tráng phủ:

(1) Hệ thống hình ảnh nhiệt hồng ngoại
Là thành phần cốt lõi của ống kính hồng ngoại (băng tần 3-5μm hoặc 8-12μm) dùng cho thiết bị giám sát an ninh, kiểm tra công nghiệp và nhìn ban đêm của quân đội.

(2) Hệ thống quang học laser
Laser CO₂ (10,6μm): Thấu kính phản xạ cao cho bộ cộng hưởng laser hoặc điều khiển chùm tia.

Laser sợi quang (1,5-2μm): Thấu kính phim chống phản xạ cải thiện hiệu quả ghép nối.

(3) Thiết bị kiểm tra chất bán dẫn
Vật kính hiển vi hồng ngoại để phát hiện lỗi wafer, chống ăn mòn plasma (cần có lớp phủ bảo vệ đặc biệt).

(4) dụng cụ phân tích quang phổ
Là một thành phần quang phổ của máy quang phổ hồng ngoại Fourier (FTIR), cần có độ truyền qua cao và độ méo mặt sóng thấp.

Thông số kỹ thuật:

Thấu kính silicon đơn tinh thể phủ đã trở thành một thành phần quan trọng không thể thay thế trong hệ thống quang học hồng ngoại do khả năng truyền ánh sáng hồng ngoại tuyệt vời, độ ổn định nhiệt cao và đặc tính phủ tùy chỉnh. Các dịch vụ tùy chỉnh chuyên biệt của chúng tôi đảm bảo hiệu suất tốt nhất của thấu kính trong các ứng dụng laser, kiểm tra và hình ảnh.

Tiêu chuẩn	Độ chính xác cao
Vật liệu	Silic
Kích cỡ	5mm-300mm	5mm-300mm
Dung sai kích thước	±0,1mm	±0,02mm
Khẩu độ rõ nét	≥90%	95%
Chất lượng bề mặt	60/40	20/10
Sự tập trung	3'	1'
Dung sai độ dài tiêu cự	±2%	±0,5%
Lớp phủ	Không tráng phủ, AR, BBAR, Phản quang

Dịch vụ tùy chỉnh XKH

XKH cung cấp tùy chỉnh toàn bộ quy trình của thấu kính silicon đơn tinh thể tráng phủ: Từ lựa chọn chất nền silicon đơn tinh thể (điện trở suất >1000Ω·cm), xử lý quang học chính xác (hình cầu/phi cầu, độ chính xác bề mặt λ/4@633nm), lớp phủ tùy chỉnh (chống phản xạ/phản xạ cao/phim lọc, hỗ trợ thiết kế đa băng tần), đến thử nghiệm nghiêm ngặt (tốc độ truyền, ngưỡng hư hỏng laser, thử nghiệm độ tin cậy của môi trường), hỗ trợ sản xuất hàng loạt nhỏ (10 chiếc) đến quy mô lớn. Nó cũng cung cấp tài liệu kỹ thuật (đường cong lớp phủ, thông số quang học) và hỗ trợ sau bán hàng để đáp ứng các yêu cầu khắt khe của hệ thống quang học hồng ngoại.