Ống kính silicon tráng phủ silicon đơn tinh thể phim chống phản xạ AR tráng phủ tùy chỉnh
Đặc điểm của thấu kính silicon tráng phủ:
1. Hiệu suất quang học:
Phạm vi truyền dẫn: 1,2-7μm (gần hồng ngoại đến hồng ngoại trung bình), độ truyền dẫn >90% trong dải cửa sổ khí quyển 3-5μm (sau khi phủ).
Do chiết suất cao (n≈ 3,4@4μm), nên mạ một lớp màng chống phản xạ (như MgF₂/Y₂O₃) để giảm thiểu tổn thất phản xạ bề mặt.
2. Độ ổn định nhiệt:
Hệ số giãn nở nhiệt thấp (2,6×10⁻⁶/K), khả năng chịu nhiệt độ cao (nhiệt độ hoạt động lên tới 500℃), phù hợp cho các ứng dụng laser công suất cao.
3. Tính chất cơ học:
Độ cứng Mohs 7, chống trầy xước nhưng giòn cao, cần bảo vệ vát cạnh.
4. Đặc điểm lớp phủ:
Customized anti-reflection film (AR@3-5μm), high reflection film (HR@10.6μm for CO₂ laser), bandpass filter film, etc.
Ứng dụng của thấu kính silicon tráng phủ:
(1) Hệ thống hình ảnh nhiệt hồng ngoại
Là thành phần cốt lõi của ống kính hồng ngoại (băng tần 3-5μm hoặc 8-12μm) dùng cho thiết bị giám sát an ninh, kiểm tra công nghiệp và nhìn ban đêm của quân đội.
(2) Hệ thống quang học laser
Laser CO₂ (10,6μm): Thấu kính phản xạ cao dành cho bộ cộng hưởng laser hoặc điều khiển chùm tia.
Laser sợi quang (1,5-2μm): Thấu kính phim chống phản xạ cải thiện hiệu quả ghép nối.
(3) Thiết bị kiểm tra chất bán dẫn
Vật kính hiển vi hồng ngoại để phát hiện khuyết tật wafer, chống ăn mòn plasma (cần lớp phủ bảo vệ đặc biệt).
(4) dụng cụ phân tích quang phổ
Là một thành phần quang phổ của máy quang phổ hồng ngoại Fourier (FTIR), cần có độ truyền qua cao và độ méo mặt sóng thấp.
Thông số kỹ thuật:
Thấu kính silicon đơn tinh thể phủ đã trở thành một thành phần quan trọng không thể thay thế trong hệ thống quang học hồng ngoại nhờ khả năng truyền dẫn ánh sáng hồng ngoại tuyệt vời, độ ổn định nhiệt cao và đặc tính phủ tùy chỉnh. Dịch vụ tùy chỉnh chuyên biệt của chúng tôi đảm bảo hiệu suất tốt nhất của thấu kính trong các ứng dụng laser, kiểm tra và hình ảnh.
| Tiêu chuẩn | Độ chính xác cao | |
| Vật liệu | Silic | |
| Kích cỡ | 5mm-300mm | 5mm-300mm |
| Dung sai kích thước | ±0,1mm | ±0,02mm |
| Khẩu độ rõ nét | ≥90% | 95% |
| Chất lượng bề mặt | 60/40 | 20/10 |
| Tập trung | 3' | 1' |
| Dung sai độ dài tiêu cự | ±2% | ±0,5% |
| Lớp phủ | Không tráng phủ, AR, BBAR, Phản quang | |
Dịch vụ tùy chỉnh XKH
XKH cung cấp quy trình tùy chỉnh toàn diện cho thấu kính silicon đơn tinh thể phủ: Từ việc lựa chọn đế silicon đơn tinh thể (điện trở suất >1000Ω·cm), xử lý quang học chính xác (hình cầu/phi cầu, độ chính xác bề mặt λ/4@633nm), lớp phủ tùy chỉnh (chống phản xạ/phản xạ cao/màng lọc, hỗ trợ thiết kế đa băng tần), đến thử nghiệm nghiêm ngặt (tốc độ truyền dẫn, ngưỡng hư hại laser, kiểm tra độ tin cậy môi trường), hỗ trợ sản xuất hàng loạt nhỏ (10 chiếc) đến quy mô lớn. Công ty cũng cung cấp tài liệu kỹ thuật (đường cong phủ, thông số quang học) và hỗ trợ hậu mãi để đáp ứng các yêu cầu khắt khe của hệ thống quang học hồng ngoại.
Sơ đồ chi tiết
