Thấu kính silicon phủ lớp màng chống phản xạ AR tùy chỉnh bằng silicon đơn tinh thể

Mô tả ngắn gọn:

Thấu kính silicon đơn tinh thể phủ lớp là một phần tử quang học chức năng dựa trên silicon đơn tinh thể (Si) có độ tinh khiết cao, được chế tạo bằng công nghệ xử lý và phủ quang học chính xác. Silicon đơn tinh thể có khả năng truyền ánh sáng tuyệt vời trong dải hồng ngoại (1,2-7μm), và khi kết hợp với các lớp phủ như màng chống phản xạ (AR), màng phản xạ cao (HR) hoặc màng lọc, nó có thể cải thiện đáng kể hiệu suất truyền dẫn hoặc phản xạ của các dải tần cụ thể. Sản phẩm này được sử dụng rộng rãi trong chụp ảnh hồng ngoại, quang học laser và phát hiện chất bán dẫn.

Gửi email cho chúng tôi

Đặc trưng

Đặc điểm của thấu kính silicon phủ lớp:

1. Hiệu năng quang học:
Dải truyền dẫn: 1,2-7μm (cận hồng ngoại đến hồng ngoại trung bình), độ truyền dẫn >90% trong dải cửa sổ khí quyển 3-5μm (sau khi phủ lớp).
Do chiết suất cao (n≈ 3,4@4μm), cần phải phủ một lớp màng chống phản xạ (như MgF₂/Y₂O₃) để giảm tổn thất phản xạ bề mặt.

2. Độ ổn định nhiệt:
Hệ số giãn nở nhiệt thấp (2,6×10⁻⁶/K), khả năng chịu nhiệt cao (nhiệt độ hoạt động lên đến 500℃), thích hợp cho các ứng dụng laser công suất cao.

3. Tính chất cơ học:
Độ cứng Mohs 7, khả năng chống trầy xước, nhưng độ giòn cao, cần phải mài vát cạnh để bảo vệ.

4. Đặc điểm của lớp phủ:
Customized anti-reflection film (AR@3-5μm), high reflection film (HR@10.6μm for CO₂ laser), bandpass filter film, etc.

Ứng dụng của thấu kính silicon phủ lớp:

(1) Hệ thống chụp ảnh nhiệt hồng ngoại
Là thành phần cốt lõi của thấu kính hồng ngoại (băng tần 3-5μm hoặc 8-12μm) dùng trong giám sát an ninh, kiểm tra công nghiệp và thiết bị nhìn đêm quân sự.

(2) Hệ thống quang học laser
Laser CO₂ (10,6μm): Thấu kính phản xạ cao dùng cho bộ cộng hưởng laser hoặc điều khiển hướng chùm tia.

Laser sợi quang (1,5-2μm): Thấu kính màng chống phản xạ giúp cải thiện hiệu suất ghép nối.

(3) Thiết bị kiểm tra bán dẫn
Ống kính hiển vi hồng ngoại dùng để phát hiện khuyết tật trên tấm bán dẫn, có khả năng chống ăn mòn plasma (cần lớp phủ bảo vệ đặc biệt).

(4) dụng cụ phân tích quang phổ
Là một thành phần quang phổ của máy quang phổ hồng ngoại Fourier (FTIR), cần có độ truyền dẫn cao và độ méo sóng thấp.

Thông số kỹ thuật:

Thấu kính silicon đơn tinh thể phủ lớp đã trở thành một thành phần quan trọng không thể thiếu trong hệ thống quang học hồng ngoại nhờ khả năng truyền ánh sáng hồng ngoại tuyệt vời, độ ổn định nhiệt cao và đặc tính lớp phủ có thể tùy chỉnh. Dịch vụ tùy chỉnh chuyên biệt của chúng tôi đảm bảo hiệu suất tốt nhất của thấu kính trong các ứng dụng laser, kiểm tra và hình ảnh.

Tiêu chuẩn	Độ chính xác cao
Vật liệu	Silicon
Kích cỡ	5mm-300mm	5mm-300mm
Dung sai kích thước	±0,1mm	±0,02mm
Khẩu độ rõ	≥90%	95%
Chất lượng bề mặt	60/40	20/10
Tập trung	3'	1'
Dung sai tiêu cự	±2%	±0,5%
Lớp phủ	Không tráng phủ, AR, BBAR, Phản quang

Dịch vụ khách hàng XKH

XKH cung cấp dịch vụ tùy chỉnh toàn diện quy trình sản xuất thấu kính silicon đơn tinh thể phủ lớp: Từ khâu lựa chọn chất nền silicon đơn tinh thể (điện trở suất >1000Ω·cm), gia công quang học chính xác (hình cầu/phi cầu, độ chính xác bề mặt λ/4@633nm), phủ lớp tùy chỉnh (chống phản xạ/phản xạ cao/màng lọc, hỗ trợ thiết kế đa băng tần), đến kiểm tra nghiêm ngặt (tỷ lệ truyền dẫn, ngưỡng hư hỏng do laser, kiểm tra độ tin cậy môi trường), hỗ trợ sản xuất từ lô nhỏ (10 chiếc) đến sản xuất quy mô lớn. Công ty cũng cung cấp tài liệu kỹ thuật (đường cong phủ lớp, thông số quang học) và hỗ trợ sau bán hàng để đáp ứng các yêu cầu khắt khe của hệ thống quang học hồng ngoại.