Kính quang học Silica nóng chảy JGS1, JGS2 và JGS3

Hình ảnh nổi bật về kính quang học silica nung chảy JGS1, JGS2 và JGS3

Mô tả ngắn gọn:

"Silicon nóng chảy" hoặc "Thạch anh nóng chảy" là pha vô định hình của thạch anh (SiO2). Khi so sánh với thủy tinh borosilicate, silica nóng chảy không có chất phụ gia; do đó nó tồn tại ở dạng tinh khiết, SiO2. Silica nóng chảy có độ truyền cao hơn trong quang phổ hồng ngoại và tử ngoại khi so sánh với thủy tinh thông thường. Silica nóng chảy được sản xuất bằng cách làm tan chảy và đông đặc lại SiO2 siêu tinh khiết. Mặt khác, silica nóng chảy tổng hợp được tạo ra từ các tiền chất hóa học giàu silic như SiCl4 được khí hóa và sau đó bị oxy hóa trong môi trường H2 + O2. Bụi SiO2 hình thành trong trường hợp này được nung chảy với silica trên một chất nền. Các khối silica nóng chảy được cắt thành các tấm wafer sau đó các tấm wafer cuối cùng được đánh bóng.

Gửi email cho chúng tôi

Đặc trưng

Sơ đồ chi tiết

Tổng quan về Silica hợp nhất JGS1, JGS2 và JGS3

JGS1, JGS2 và JGS3 là ba loại silica nóng chảy được thiết kế chính xác, mỗi loại được thiết kế cho các vùng quang phổ cụ thể. Được sản xuất từ silica có độ tinh khiết cực cao thông qua quy trình nấu chảy tiên tiến, những vật liệu này có độ trong suốt quang học vượt trội, độ giãn nở nhiệt thấp và độ ổn định hóa học vượt trội.

JGS1– Silica nóng chảy cấp UV được tối ưu hóa để truyền tia cực tím sâu.
JGS2– Silica nóng chảy cấp quang học dùng cho các ứng dụng có thể nhìn thấy đến gần hồng ngoại.
JGS3– Silica nóng chảy cấp IR có hiệu suất hồng ngoại được cải thiện.

Bằng cách lựa chọn đúng loại, các kỹ sư có thể đạt được khả năng truyền dẫn, độ bền và độ ổn định tối ưu cho các hệ thống quang học đòi hỏi khắt khe.

Điểm của JGS1, JGS2 và JGS3

Silica nóng chảy JGS1 – Cấp UV

Phạm vi truyền dẫn:185–2500 nm
Điểm mạnh chính:Độ trong suốt vượt trội ở bước sóng UV sâu.

Silica nóng chảy JGS1 được sản xuất bằng silica tổng hợp có độ tinh khiết cao với hàm lượng tạp chất được kiểm soát chặt chẽ. Sản phẩm mang lại hiệu suất vượt trội trong hệ thống UV, với độ truyền dẫn cao dưới 250 nm, hiện tượng tự huỳnh quang rất thấp và khả năng chống năng lượng mặt trời mạnh mẽ.

Điểm nổi bật về hiệu suất của JGS1:

Độ truyền >90% từ 200 nm đến vùng ánh sáng nhìn thấy được.
Hàm lượng hydroxyl (OH) thấp để giảm thiểu sự hấp thụ tia UV.
Ngưỡng tổn thương tia laser cao phù hợp với tia laser excimer.
Huỳnh quang tối thiểu để đo UV chính xác.

Ứng dụng phổ biến:

Quang học chiếu ảnh quang khắc.
Cửa sổ và thấu kính laser Excimer (193 nm, 248 nm).
Máy quang phổ UV và thiết bị khoa học.
Đo lường độ chính xác cao để kiểm tra UV.

Silica nóng chảy JGS2 – Cấp quang học

Phạm vi truyền dẫn:220–3500 nm
Điểm mạnh chính:Hiệu suất quang học cân bằng từ vùng khả kiến đến vùng cận hồng ngoại.

JGS2 được thiết kế cho các hệ thống quang học đa năng, trong đó ánh sáng khả kiến và hiệu suất NIR là yếu tố then chốt. Mặc dù khả năng truyền tia UV ở mức trung bình, giá trị chính của nó nằm ở tính đồng nhất quang học, độ méo mặt sóng thấp và khả năng chịu nhiệt tuyệt vời.

Điểm nổi bật về hiệu suất của JGS2:

Độ truyền qua cao trên phổ VIS–NIR.
Khả năng chống tia UV xuống tới ~220 nm cho các ứng dụng linh hoạt.
Khả năng chống sốc nhiệt và ứng suất cơ học tuyệt vời.
Chiết suất đồng đều với độ lưỡng chiết tối thiểu.

Ứng dụng phổ biến:

Quang học hình ảnh chính xác.
Cửa sổ laser cho bước sóng khả kiến và NIR.
Bộ chia chùm tia, bộ lọc và lăng kính.
Linh kiện quang học cho hệ thống kính hiển vi và máy chiếu.

Silica nóng chảy JGS3 – IR

Cấp

Phạm vi truyền dẫn:260–3500 nm
Điểm mạnh chính:Truyền dẫn hồng ngoại được tối ưu hóa với khả năng hấp thụ OH thấp.

Silica nóng chảy JGS3 được thiết kế để mang lại độ trong suốt hồng ngoại tối đa bằng cách giảm hàm lượng hydroxyl trong quá trình sản xuất. Điều này giúp giảm thiểu các đỉnh hấp thụ ở khoảng 2,73 μm và 4,27 μm, vốn có thể làm giảm hiệu suất trong các ứng dụng hồng ngoại.

Điểm nổi bật về hiệu suất của JGS3:

Khả năng truyền dẫn hồng ngoại vượt trội so với JGS1 và JGS2.
Giảm thiểu sự mất mát hấp thụ liên quan đến OH.
Khả năng chống chịu chu kỳ nhiệt tuyệt vời.
Độ ổn định lâu dài trong môi trường nhiệt độ cao.

Ứng dụng phổ biến:

Cuvet và cửa sổ quang phổ IR.
Hình ảnh nhiệt và quang học cảm biến.
Vỏ bảo vệ IR trong môi trường khắc nghiệt.
Cổng quan sát công nghiệp cho các quy trình nhiệt độ cao.

Dữ liệu so sánh chính của JGS1, JGS2 và JGS3

Mục	JGS1	JGS2	JGS3
Kích thước tối đa	<Φ200mm	<Φ300mm	<Φ200mm
Phạm vi truyền (Tỷ số truyền trung bình)	0,17~2,10um (Tavg>90%)	0,26~2,10um (Tavg>85%)	0,185~3,50um (Tavg>85%)
OH- Nội dung	1200 ppm	150 ppm	5 ppm
Huỳnh quang (ví dụ 254nm)	Hầu như miễn phí	Vb mạnh	VB mạnh
Hàm lượng tạp chất	5 ppm	20-40 ppm	40-50 ppm
Hằng số lưỡng chiết	2-4 nm/cm	4-6 nm/cm	4-10 nm/cm
Phương pháp nấu chảy	CVD tổng hợp	Sự nóng chảy oxy-hydro	Nấu chảy bằng điện
Ứng dụng	Vật liệu nền laser: Cửa sổ, thấu kính, lăng kính, gương...	Chất bán dẫn và cửa sổ nhiệt độ cao	IR & UV chất nền

Câu hỏi thường gặp – Silica nóng chảy JGS1, JGS2 và JGS3

Câu hỏi 1: Sự khác biệt chính giữa JGS1, JGS2 và JGS3 là gì?
A:

JGS1– Silica nóng chảy cấp UV có khả năng truyền dẫn vượt trội từ 185 nm, lý tưởng cho quang học UV sâu và laser excimer.
JGS2– Silica nóng chảy cấp quang học dùng cho các ứng dụng từ khả kiến đến cận hồng ngoại (220–3500 nm), phù hợp cho quang học mục đích chung.
JGS3– Silica nóng chảy cấp IR được tối ưu hóa cho tia hồng ngoại (260–3500 nm) với các đỉnh hấp thụ OH giảm.

Câu 2: Tôi nên chọn lớp nào cho đơn đăng ký của mình?
A:

ChọnJGS1dành cho quang khắc UV, quang phổ UV hoặc hệ thống laser 193 nm/248 nm.
ChọnJGS2cho hình ảnh khả kiến/NIR, quang học laser và thiết bị đo lường.
ChọnJGS3dành cho quang phổ IR, hình ảnh nhiệt hoặc cửa sổ quan sát nhiệt độ cao.

Câu hỏi 3: Tất cả các cấp bậc JGS có cùng sức mạnh thể chất không?
A:Có. JGS1, JGS2 và JGS3 có cùng các đặc tính cơ học—mật độ, độ cứng và độ giãn nở nhiệt—vì tất cả đều được làm từ silica nóng chảy có độ tinh khiết cao. Sự khác biệt chính là về mặt quang học.

Câu hỏi 4: JGS1, JGS2 và JGS3 có khả năng chống chịu được tác động của tia laser không?
A:Có. Tất cả các cấp độ đều có ngưỡng tổn thương laser cao (>20 J/cm² ở bước sóng 1064 nm, xung 10 ns). Đối với laser UV,JGS1có khả năng chống lại sự tác động của ánh nắng mặt trời và sự thoái hóa bề mặt cao nhất.

Giới thiệu về chúng tôi

XKH chuyên phát triển, sản xuất và kinh doanh công nghệ cao các loại kính quang học đặc biệt và vật liệu tinh thể mới. Sản phẩm của chúng tôi phục vụ cho điện tử quang học, điện tử tiêu dùng và quân sự. Chúng tôi cung cấp linh kiện quang học Sapphire, vỏ ống kính điện thoại di động, gốm sứ, LT, Silicon Carbide SIC, thạch anh và wafer tinh thể bán dẫn. Với chuyên môn cao và thiết bị tiên tiến, chúng tôi vượt trội trong lĩnh vực gia công sản phẩm phi tiêu chuẩn, hướng tới mục tiêu trở thành doanh nghiệp công nghệ cao hàng đầu về vật liệu quang điện tử.