Lò phát triển silicon đơn tinh thể hệ thống phát triển thỏi silicon đơn tinh thể nhiệt độ thiết bị lên đến 2100℃

Lò phát triển silicon đơn tinh thể hệ thống phát triển thỏi silicon đơn tinh thể thiết bị nhiệt độ lên đến 2100℃ Hình ảnh nổi bật

Mô tả ngắn gọn:

Lò tăng trưởng silicon đơn tinh thể là thiết bị chính để sản xuất các thanh silicon đơn tinh thể có độ tinh khiết cao, được sử dụng rộng rãi trong các ngành công nghiệp bán dẫn và quang điện. Silic đơn tinh thể là vật liệu cốt lõi trong sản xuất mạch tích hợp, pin mặt trời và các thiết bị điện tử khác. Lò tăng trưởng silicon đơn tinh thể chuyển đổi nguyên liệu polysilicon thành các thanh silicon đơn tinh thể chất lượng cao bằng cách sử dụng các kỹ thuật như phương pháp Czochralski (CZ) Czochralski hoặc phương pháp vùng nổi (FZ).

Chức năng cốt lõi: Làm nóng nguyên liệu polysilicon đến trạng thái nóng chảy, hướng dẫn và kiểm soát sự phát triển của tinh thể thông qua các tinh thể mầm để tạo thành các thanh silicon đơn tinh thể có kích thước và hướng tinh thể cụ thể.

Các thành phần chính:
Hệ thống sưởi ấm: Cung cấp môi trường nhiệt độ cao, thường sử dụng bộ gia nhiệt than chì hoặc gia nhiệt cảm ứng tần số cao.

Lò nung: Dùng để chứa silic nóng chảy, thường làm bằng thạch anh hoặc than chì.

Hệ thống nâng: kiểm soát tốc độ quay và nâng của tinh thể hạt giống để đảm bảo sự phát triển đồng đều của tinh thể.

Hệ thống kiểm soát khí quyển: Vật liệu nóng chảy được bảo vệ khỏi bị nhiễm bẩn bằng các khí trơ như argon.

Hệ thống làm mát: Kiểm soát tốc độ làm mát tinh thể để giảm ứng suất nhiệt.

Gửi email cho chúng tôi

Chi tiết sản phẩm

Thẻ sản phẩm

Đặc điểm chính của lò tăng trưởng silicon đơn tinh thể

(1) Kiểm soát độ chính xác cao
Kiểm soát nhiệt độ: Kiểm soát chính xác nhiệt độ gia nhiệt (điểm nóng chảy của silicon là khoảng 1414°C) để đảm bảo độ ổn định khi nóng chảy.
Kiểm soát tốc độ nâng: tốc độ nâng của tinh thể hạt được kiểm soát bởi động cơ chính xác (thường là 0,5-2 mm/phút), ảnh hưởng đến đường kính và chất lượng tinh thể.
Kiểm soát tốc độ quay: Điều chỉnh tốc độ quay của hạt giống và nồi nấu để đảm bảo tinh thể phát triển đồng đều.

(2) sự phát triển tinh thể chất lượng cao
Mật độ khuyết tật thấp: Bằng cách tối ưu hóa các thông số quy trình, có thể phát triển thanh silicon đơn tinh thể có khuyết tật thấp và độ tinh khiết cao.
Tinh thể lớn: có thể sản xuất các thanh silicon đơn tinh thể có đường kính lên tới 12 inch (300 mm) để đáp ứng nhu cầu của ngành công nghiệp bán dẫn.

(3) Sản xuất hiệu quả
Vận hành tự động: Lò nuôi cấy silic đơn tinh thể hiện đại được trang bị hệ thống điều khiển tự động để giảm sự can thiệp thủ công và cải thiện hiệu quả sản xuất.
Thiết kế tiết kiệm năng lượng: Sử dụng hệ thống sưởi ấm và làm mát hiệu quả để giảm mức tiêu thụ năng lượng.

(4) Tính linh hoạt
Phù hợp với nhiều quy trình khác nhau: hỗ trợ phương pháp CZ, phương pháp FZ và công nghệ phát triển tinh thể khác.
Tương thích với nhiều loại vật liệu: Ngoài silicon đơn tinh thể, nó cũng có thể được sử dụng để phát triển các vật liệu bán dẫn khác (như germani, gali arsenide).

Ứng dụng chính của lò nung silic đơn tinh thể

(1) Ngành công nghiệp bán dẫn
Sản xuất mạch tích hợp: silicon đơn tinh thể là vật liệu cốt lõi để sản xuất CPU, bộ nhớ và các mạch tích hợp khác.
Thiết bị công suất: Dùng để sản xuất MOSFET, IGBT và các thiết bị bán dẫn công suất khác.

(2) Ngành công nghiệp quang điện
Pin mặt trời: Silic đơn tinh thể là vật liệu chính của pin mặt trời hiệu suất cao và được sử dụng rộng rãi trong sản xuất điện quang điện.
Tấm pin quang điện: Được sử dụng để sản xuất tấm pin quang điện silicon đơn tinh thể nhằm cải thiện hiệu suất chuyển đổi quang điện.

(3) Nghiên cứu khoa học
Nghiên cứu vật liệu: Dùng để nghiên cứu tính chất vật lý và hóa học của silic đơn tinh thể và phát triển vật liệu bán dẫn mới.
Tối ưu hóa quy trình: Hỗ trợ cải tiến và tối ưu hóa quy trình phát triển tinh thể.

(4) Các thiết bị điện tử khác
Cảm biến: Được sử dụng để sản xuất các cảm biến có độ chính xác cao như cảm biến áp suất và cảm biến nhiệt độ.
Thiết bị quang điện tử: dùng để sản xuất tia laser và máy dò quang.

XKH cung cấp thiết bị và dịch vụ lò tăng trưởng silicon đơn tinh thể

XKH tập trung vào việc phát triển và sản xuất thiết bị lò nung silicon đơn tinh thể, cung cấp các dịch vụ sau:

Thiết bị tùy chỉnh: XKH cung cấp lò phát triển silicon đơn tinh thể có nhiều thông số kỹ thuật và cấu hình khác nhau theo yêu cầu của khách hàng để hỗ trợ nhiều quy trình phát triển tinh thể.

Hỗ trợ kỹ thuật: XKH cung cấp cho khách hàng toàn bộ quy trình hỗ trợ từ lắp đặt thiết bị và tối ưu hóa quy trình đến hướng dẫn kỹ thuật phát triển tinh thể.

Dịch vụ đào tạo: XKH cung cấp đào tạo vận hành và đào tạo kỹ thuật cho khách hàng để đảm bảo vận hành thiết bị hiệu quả.

Dịch vụ sau bán hàng: XKH cung cấp dịch vụ sau bán hàng phản hồi nhanh và bảo trì thiết bị để đảm bảo tính liên tục của sản xuất của khách hàng.

Dịch vụ nâng cấp: XKH cung cấp dịch vụ nâng cấp và cải tạo thiết bị theo yêu cầu của khách hàng nhằm nâng cao hiệu quả sản xuất và chất lượng tinh thể.

Lò tăng trưởng silicon đơn tinh thể là thiết bị cốt lõi của ngành công nghiệp bán dẫn và quang điện, có đặc điểm là điều khiển độ chính xác cao, tăng trưởng tinh thể chất lượng cao và sản xuất hiệu quả. Nó được sử dụng rộng rãi trong các lĩnh vực mạch tích hợp, pin mặt trời, nghiên cứu khoa học và thiết bị điện tử. XKH cung cấp thiết bị lò tăng trưởng silicon đơn tinh thể tiên tiến và đầy đủ các dịch vụ để hỗ trợ khách hàng đạt được sản xuất quy mô thanh silicon đơn tinh thể chất lượng cao, giúp phát triển các ngành công nghiệp liên quan.