Tấm wafer Sapphire 2 inch 50,8mm C-Plane M-plane R-plane A-plane Độ dày 350um 430um 500um

Mô tả ngắn gọn:

Sapphire là vật liệu có sự kết hợp độc đáo giữa các tính chất vật lý, hóa học và quang học, giúp nó có khả năng chống chịu nhiệt độ cao, sốc nhiệt, xói mòn do nước và cát, cũng như trầy xước.


Đặc trưng

Đặc điểm kỹ thuật của các hướng khác nhau

Định hướng

Trục C(0001)

Trục R(1-102)

Trục M(10-10)

Trục A(11-20)

Tài sản vật chất

Trục C có ánh sáng tinh thể, và các trục khác có ánh sáng âm. Mặt phẳng C phẳng, tốt nhất là cắt.

Mặt phẳng R cứng hơn mặt phẳng A một chút.

Mặt phẳng M có khía răng cưa, khó cắt, dễ cắt. Độ cứng của mặt phẳng A cao hơn đáng kể so với mặt phẳng C, thể hiện ở khả năng chống mài mòn, chống trầy xước và độ cứng cao; Mặt phẳng A là mặt phẳng hình zíc zắc, dễ cắt;
Ứng dụng

Chất nền sapphire định hướng C được sử dụng để phát triển các màng lắng đọng III-V và II-VI, chẳng hạn như gali nitride, có thể sản xuất các sản phẩm LED xanh, điốt laser và ứng dụng máy dò hồng ngoại.
Nguyên nhân chủ yếu là do quá trình phát triển tinh thể sapphire dọc theo trục C đã hoàn thiện, chi phí tương đối thấp, tính chất vật lý và hóa học ổn định, công nghệ epitaxy trên mặt phẳng C đã hoàn thiện và ổn định.

Sự phát triển của chất nền định hướng R của các loại silicon ngoại vi lắng đọng khác nhau, được sử dụng trong mạch tích hợp vi điện tử.
Ngoài ra, mạch tích hợp tốc độ cao và cảm biến áp suất cũng có thể được hình thành trong quá trình sản xuất màng silicon epitaxial. Chất nền loại R cũng có thể được sử dụng trong sản xuất chì, các thành phần siêu dẫn khác, điện trở có điện trở cao, gali arsenide.

Nó chủ yếu được sử dụng để tạo màng epitaxial GaN không phân cực/bán phân cực nhằm cải thiện hiệu suất phát sáng. Định hướng A đến chất nền tạo ra độ cho phép/môi trường đồng đều và mức độ cách điện cao được sử dụng trong công nghệ vi điện tử lai. Siêu dẫn nhiệt độ cao có thể được sản xuất từ ​​tinh thể kéo dài gốc A.
Khả năng xử lý Nền Sapphire có hoa văn (PSS): Dưới dạng Tăng trưởng hoặc Khắc, các hoa văn vi cấu trúc đều đặn cụ thể ở quy mô nano được thiết kế và tạo ra trên nền sapphire để kiểm soát dạng phát sáng của đèn LED, giảm các khuyết tật khác biệt giữa GaN phát triển trên nền sapphire, cải thiện chất lượng epitaxy và tăng hiệu suất lượng tử bên trong của đèn LED cũng như tăng hiệu suất trích xuất ánh sáng.
Ngoài ra, lăng kính sapphire, gương, thấu kính, lỗ, hình nón và các bộ phận cấu trúc khác có thể được tùy chỉnh theo yêu cầu của khách hàng.

Tuyên bố tài sản

Tỉ trọng Độ cứng điểm nóng chảy Chiết suất (khả kiến ​​và hồng ngoại) Độ truyền dẫn (DSP) Hằng số điện môi
3,98g/cm3 9 (mohs) 2053℃ 1,762~1,770 ≥85% 11,58@300K tại trục C (9,4 tại trục A)

Sơ đồ chi tiết

avcasvb (1)
avcasvb (2)
avcasvb (3)

  • Trước:
  • Kế tiếp:

  • Viết tin nhắn của bạn ở đây và gửi cho chúng tôi