Máy đánh bóng chùm ion cho sapphire SiC Si

Mô tả ngắn gọn:

Máy đánh bóng và tạo hình chùm tia ion dựa trên nguyên lýsự phun ionBên trong buồng chân không cao, nguồn ion tạo ra plasma, được gia tốc thành chùm ion năng lượng cao. Chùm ion này bắn phá bề mặt của linh kiện quang học, loại bỏ vật liệu ở cấp độ nguyên tử để đạt được hiệu chỉnh bề mặt và hoàn thiện siêu chính xác.

Gửi email cho chúng tôi

Đặc trưng

Sơ đồ chi tiết

Tổng quan về sản phẩm Máy đánh bóng chùm ion

Máy định hình và đánh bóng chùm ion hoạt động dựa trên nguyên lý phún xạ ion. Bên trong buồng chân không cao, nguồn ion tạo ra plasma, được gia tốc thành chùm ion năng lượng cao. Chùm ion này bắn phá bề mặt linh kiện quang học, loại bỏ vật liệu ở cấp độ nguyên tử để đạt được hiệu chỉnh bề mặt và hoàn thiện siêu chính xác.

Là một quy trình không tiếp xúc, đánh bóng chùm ion loại bỏ ứng suất cơ học và tránh hư hỏng bề mặt, khiến nó trở nên lý tưởng để sản xuất quang học có độ chính xác cao được sử dụng trong thiên văn học, hàng không vũ trụ, chất bán dẫn và các ứng dụng nghiên cứu tiên tiến.

Nguyên lý hoạt động của máy đánh bóng chùm ion

Tạo ion
Khí trơ (ví dụ: argon) được đưa vào buồng chân không và được ion hóa thông qua quá trình phóng điện để tạo thành plasma.

Gia tốc & Hình thành chùm tia
Các ion được tăng tốc lên đến hàng trăm hoặc hàng nghìn electron vôn (eV) và được định hình thành một chùm tia ổn định, tập trung.

Loại bỏ vật liệu
Chùm ion bắn phá các nguyên tử khỏi bề mặt mà không gây ra phản ứng hóa học.

Phát hiện lỗi và lập kế hoạch đường dẫn
Độ lệch hình dạng bề mặt được đo bằng phương pháp giao thoa. Các hàm loại bỏ được áp dụng để xác định thời gian dừng và tạo đường chạy dao tối ưu.

Sửa lỗi vòng kín
Các chu trình xử lý và đo lường lặp đi lặp lại sẽ tiếp tục cho đến khi đạt được mục tiêu độ chính xác RMS/PV.

Các tính năng chính của máy đánh bóng chùm ion

Khả năng tương thích bề mặt phổ quát– Xử lý bề mặt phẳng, hình cầu, phi cầu và tự do

Tỷ lệ loại bỏ cực kỳ ổn định– Cho phép hiệu chỉnh hình ảnh dưới nanomet

Xử lý không gây hư hại– Không có khuyết tật bề mặt hoặc thay đổi cấu trúc

Hiệu suất ổn định– Hoạt động tốt trên các vật liệu có độ cứng khác nhau

Hiệu chỉnh tần số thấp/trung bình– Loại bỏ lỗi mà không tạo ra hiện tượng nhiễu tần số trung bình/cao

Yêu cầu bảo trì thấp– Hoạt động liên tục trong thời gian dài với thời gian chết tối thiểu

Thông số kỹ thuật chính của máy đánh bóng chùm ion

Mục	Đặc điểm kỹ thuật
Phương pháp xử lý	Phun ion trong môi trường chân không cao
Loại xử lý	Đánh bóng và tạo hình bề mặt không tiếp xúc
Kích thước phôi tối đa	Φ4000 mm
Trục chuyển động	3 trục / 5 trục
Độ ổn định khi tháo lắp	≥95%
Độ chính xác bề mặt	PV < 10 nm; RMS ≤ 0,5 nm (RMS điển hình < 1 nm; PV < 15 nm)
Khả năng hiệu chỉnh tần số	Loại bỏ các lỗi tần số thấp-trung bình mà không gây ra lỗi tần số trung/cao
Hoạt động liên tục	3–5 tuần không cần bảo trì chân không
Chi phí bảo trì	Thấp

Khả năng xử lý của máy đánh bóng chùm ion

Các loại bề mặt được hỗ trợ

Đơn giản: Phẳng, hình cầu, lăng trụ

Phức tạp: Hình cầu đối xứng/không đối xứng, hình cầu lệch trục, hình trụ

Đặc biệt: Quang học siêu mỏng, quang học thanh, quang học bán cầu, quang học phù hợp, tấm pha, bề mặt tự do

Tài liệu được hỗ trợ

Kính quang học: Thạch anh, vi tinh thể, K9, v.v.

Vật liệu hồng ngoại: Silic, germani, v.v.

Kim loại: Nhôm, thép không gỉ, hợp kim titan, v.v.

Tinh thể: YAG, silicon carbide đơn tinh thể, v.v.

Vật liệu cứng/giòn: Silic cacbua, v.v.

Chất lượng bề mặt / Độ chính xác

PV < 10 nm

RMS ≤ 0,5 nm

Nghiên cứu trường hợp xử lý của máy đánh bóng chùm ion

Trường hợp 1 – Gương phẳng tiêu chuẩn

Phôi: Thạch anh phẳng D630 mm

Kết quả: PV 46,4 nm; RMS 4,63 nm

Trường hợp 2 – Gương phản xạ tia X

Phôi: Tấm silicon phẳng 150 × 30 mm

Kết quả: PV 8,3 nm; RMS 0,379 nm; Độ dốc 0,13 µrad

Trường hợp 3 – Gương lệch trục

Phôi: Gương mài lệch trục D326 mm

Kết quả: PV 35,9 nm; RMS 3,9 nm

Câu hỏi thường gặp về Kính Thạch Anh

Câu hỏi thường gặp – Máy đánh bóng chùm ion

Câu 1: Đánh bóng bằng chùm ion là gì?
A1:Đánh bóng chùm ion là một quy trình không tiếp xúc, sử dụng chùm ion hội tụ (chẳng hạn như ion argon) để loại bỏ vật liệu khỏi bề mặt chi tiết gia công. Các ion được tăng tốc và hướng về phía bề mặt, loại bỏ vật liệu ở cấp độ nguyên tử, mang lại bề mặt hoàn thiện siêu mịn. Quy trình này loại bỏ ứng suất cơ học và hư hỏng bề mặt, lý tưởng cho các linh kiện quang học chính xác.

Câu hỏi 2: Máy đánh bóng chùm ion có thể xử lý những loại bề mặt nào?
A2:CácMáy đánh bóng chùm ioncó thể xử lý nhiều loại bề mặt, bao gồm các thành phần quang học đơn giản nhưhình phẳng, hình cầu và hình lăng trụ, cũng như hình học phức tạp nhưhình cầu, hình cầu lệch trục, Vàbề mặt tự do. Nó đặc biệt hiệu quả trên các vật liệu như kính quang học, quang học hồng ngoại, kim loại và vật liệu cứng/giòn.

Câu hỏi 3: Máy đánh bóng chùm ion có thể hoạt động với những vật liệu nào?
A3:CácMáy đánh bóng chùm ioncó thể đánh bóng nhiều loại vật liệu, bao gồm:

Kính quang học: Thạch anh, vi tinh thể, K9, v.v.
Vật liệu hồng ngoại: Silic, germani, v.v.
Kim loại: Nhôm, thép không gỉ, hợp kim titan, v.v.
Vật liệu tinh thể:YAG, silicon carbide đơn tinh thể, v.v.
Các vật liệu cứng/giòn khác: Silic cacbua, v.v.

Giới thiệu về chúng tôi

XKH chuyên phát triển, sản xuất và kinh doanh công nghệ cao các loại kính quang học đặc biệt và vật liệu tinh thể mới. Sản phẩm của chúng tôi phục vụ cho điện tử quang học, điện tử tiêu dùng và quân sự. Chúng tôi cung cấp linh kiện quang học Sapphire, vỏ ống kính điện thoại di động, gốm sứ, LT, Silicon Carbide SIC, thạch anh và wafer tinh thể bán dẫn. Với chuyên môn cao và thiết bị tiên tiến, chúng tôi vượt trội trong lĩnh vực gia công sản phẩm phi tiêu chuẩn, hướng tới mục tiêu trở thành doanh nghiệp công nghệ cao hàng đầu về vật liệu quang điện tử.