Tấm wafer silicon carbide SiC 6 inch 150mm loại 4H-N dùng cho nghiên cứu sản xuất MOS hoặc SBD và loại giả

Mô tả ngắn gọn:

Tấm nền tinh thể đơn silicon carbide 6 inch là vật liệu hiệu suất cao với các đặc tính vật lý và hóa học tuyệt vời. Được sản xuất từ ​​vật liệu tinh thể đơn silicon carbide có độ tinh khiết cao, nó thể hiện độ dẫn nhiệt, độ ổn định cơ học và khả năng chịu nhiệt độ cao vượt trội. Tấm nền này, được sản xuất bằng các quy trình sản xuất chính xác và vật liệu chất lượng cao, đã trở thành vật liệu được ưa chuộng để chế tạo các thiết bị điện tử hiệu suất cao trong nhiều lĩnh vực khác nhau.


Chi tiết sản phẩm

Thẻ sản phẩm

Các lĩnh vực ứng dụng

Tấm nền tinh thể đơn silicon carbide 6 inch đóng vai trò quan trọng trong nhiều ngành công nghiệp. Đầu tiên, nó được sử dụng rộng rãi trong ngành công nghiệp bán dẫn để chế tạo các thiết bị điện tử công suất cao như bóng bán dẫn công suất, mạch tích hợp và mô-đun công suất. Độ dẫn nhiệt cao và khả năng chịu nhiệt độ cao của nó cho phép tản nhiệt tốt hơn, dẫn đến hiệu suất và độ tin cậy được cải thiện. Thứ hai, tấm wafer silicon carbide rất cần thiết trong các lĩnh vực nghiên cứu để phát triển các vật liệu và thiết bị mới. Ngoài ra, tấm wafer silicon carbide có nhiều ứng dụng trong lĩnh vực quang điện tử, bao gồm sản xuất đèn LED và điốt laser.

Thông số kỹ thuật sản phẩm

Tấm nền tinh thể đơn silicon carbide 6 inch có đường kính 6 inch (khoảng 152,4 mm). Độ nhám bề mặt là Ra < 0,5 nm và độ dày là 600 ± 25 μm. Tấm nền có thể được tùy chỉnh với độ dẫn điện loại N hoặc loại P, dựa trên yêu cầu của khách hàng. Hơn nữa, nó thể hiện độ ổn định cơ học đặc biệt, có khả năng chịu được áp suất và rung động.

Đường kính 150±2.0mm(6 inch)

Độ dày

350±25µm

Định hướng

Trên trục : <0001>±0.5°

Ngoài trục: 4.0° về phía 1120±0.5°

Đa dạng 4H

Điện trở suất (Ω·cm)

4H-N

0,015~0,028 Ω·cm/0,015~0,025ohm·cm

4/6H-SI

>1E5

Hướng phẳng chính

{10-10}±5,0°

Chiều dài phẳng chính (mm)

47,5mm±2,5mm

Bờ rìa

vát mép

TTV/Cung/Cánh (um)

≤15 /≤40 /≤60

AFM Mặt trước (Si-face)

Ba Lan Ra≤1 nm

CMP Ra≤0,5 nm

Giá trị vòng đời

≤3μm(10mm*10mm)

≤5μm(10mm*10mm)

≤10μm(10mm*10mm)

TTV

≤5μm

≤10μm

≤15μm

Vỏ cam/vết lõm/vết nứt/ô nhiễm/vết bẩn/vết sọc

Không có Không có Không có

thụt lề

Không có Không có Không có

Tấm nền tinh thể đơn silicon carbide 6 inch là vật liệu hiệu suất cao được sử dụng rộng rãi trong các ngành công nghiệp bán dẫn, nghiên cứu và quang điện tử. Nó có độ dẫn nhiệt tuyệt vời, độ ổn định cơ học và khả năng chịu nhiệt độ cao, phù hợp để chế tạo các thiết bị điện tử công suất cao và nghiên cứu vật liệu mới. Chúng tôi cung cấp nhiều thông số kỹ thuật và tùy chọn tùy chỉnh khác nhau để đáp ứng nhu cầu đa dạng của khách hàng.Hãy liên hệ với chúng tôi để biết thêm thông tin chi tiết về tấm silicon carbide!

Sơ đồ chi tiết

WechatIMG569_ (1)
WechatIMG569_ (2)

  • Trước:
  • Kế tiếp:

  • Viết tin nhắn của bạn ở đây và gửi cho chúng tôi